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东莞塑胶电镀厂浅谈真空镀膜的特点

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发表时间:2019-11-16 17:37作者:东莞塑胶真空电镀厂来源:惠州真空镀膜哪家好网址:http://www.hqsy123.com

  在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

  东莞塑胶电镀厂的真空镀膜的功能是多方面的,这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说,真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果,在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能,提供优异的电磁屏蔽和导电效果。

真空镀膜的特点

  真空镀膜和其他镀膜方式相比较具有以下特点:

  1.真空镀膜可以在固态基体上镀制金属,合金,半导体薄膜及各种化合物薄膜拜,薄膜的成分可以在大范围内调控。

  2.真空镀膜可以镀制高纯度,高致密度,与基体结合力强的各种功能薄膜拜。特别是各种金属五金产品,大规模集成电路,小分子有机显示器件等很多器件所需的主体薄膜只能在真空条件下制备,其他制模技术无法满足要求。

  3.真空镀膜对环境无污染,特别是PVD方法。

  4.真空镀膜是需要有真空设备来完成的镀膜,所以成本比较高,但真空镀膜产品耐磨性好,耐腐蚀,环保,产品可过ROHS测试。

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